产品展示
详细说明
技术参数:
1.样品仓尺寸: 120mm x 120mm,高强度不锈钢玻璃结构;
2.样品台:可放置12个准EM样品座,可调高度优于 50mm;
3.溅射头:低电压平面磁控管,靶材换快速,环绕暗区护罩;
4.溅镀优点:基于微处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真空安联锁装置,大180A,配有过流保护;
5.溅射控制:微处理器控制,安互锁,可调,大电流40mA,程序化数字控制;
6.靶材可选:Au、Pt、Ag、Cr、Cu、Fe等;
7.镀膜均匀性好,电流回路控制,低压直流冷态溅射镀膜,避免样品微纳结构热损伤;
8.真空系统:真空值优于10-3mbar,机械泵抽速可达4.0m3/h
9.电源:200-240 VAC, 50/60Hz
样品仓尺寸 120 mm x 120mm, 高强度硼硅酸盐钢化玻璃结构 (可选150mm)
样品台 可放置12个EM样品座,可调高度优于 60mm
溅镀优点 基于微处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真空安联锁装置,
大180A,配有过流保护
溅射控制 程序化数字控制,恒流设计
溅射头 低电压平面磁控管,靶材换快速,环绕暗区护罩
靶材 配金或铂,可选金/钯,铂/钯, 银, 铜, 镍, 铁等
溅射速率 优于2.3nm/s (根据不同条件可调)
真空系统 原装真空泵, 降噪减震设计, 10-3mbar真空度
适用配 Thermo Fisher/FEI, himadzu, Carl Zeiss, JEOL, Hitachi, Tcan, Phenom等
电镜和电子探针系统以及电极薄膜制备
序号 名称 描述 数量
1 108A主机 高性能离子溅射镀膜仪是用于扫描电镜非导电样品的镀膜设备。经济紧凑型设计容易操作,提供了快速抽真空时间,镀膜设计和对样品无热损伤。 安的互锁技术提供了可灵活设定不会受真空压力影响的溅射电流。 通过一个低压磁控管进行冷态溅射,喷镀。 1
2 靶材 Pt铂靶 1
3 样品仓 120mm x 120mm,高强度硼硅酸盐钢化玻璃结构 1
4 样品台 可放置12个EM样品台,可调高度为60mm 1
5 操作手册 中/英文操作手册; 1
6 泵 高性能真空泵系统
4m3每小时抽速,10-3mbar真空度,附带减震垫的桌面式设计 1
7 KF16连接装置 金属连接耦合系统 1
8 油污过滤器 进口高性能油污过滤器 1